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X63W臥式銑床的拋光盤(pán)時(shí)間:2012-06-09 11:01 來(lái)源:www.sgrivertours.com 作者:X63W臥式銑床
粗拋形成的表層損傷是次要的考慮，不過(guò)X63W臥式銑床也應當盡可能小；其次是精拋(或稱(chēng)終拋)，銑床X53K其目的是去除粗拋產(chǎn)生的表層損傷，X63W臥式銑床使拋光損傷減到最小。磨光機拋光時(shí)，銑床X53K試樣磨面與拋光盤(pán)應絕對平行并均勻地輕壓在拋光盤(pán)上，X63W臥式銑床注意防止試樣飛出和因壓力太大而產(chǎn)生新磨痕。銑床X53K還應使試樣自轉并沿轉盤(pán)半徑方向來(lái)回移動(dòng)。
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